无铅可焊性镀层及其在电子工业中的应用
[08-09 20:49:14] 来源:http://www.88dzw.com 镀层涂覆 阅读:8287次
文章摘要: 近年来,在欧美各国,铅对地下水的污染问题日益突出,其主要原因是废弃电子产品中的焊接材料—Sn—Pb合金中的铅溶出造成的。目前,Sn—Pb焊料在电子部件的装配上仍占主导地位。然而,铅对人体环境具有很大的毒害性,人们期待着无铅焊料及与此相应的电镀工艺。因此,无铅可焊镀层的开发是电子组装行业绿色生产的根本。在这样的社会背景下,近年来无铅可焊性合金的开发开始活跃起来。人们主要是探讨了各种锡基合金。当前的研究目标是:(1)由于开发性能完全优于Sn—Pb系合金的材料非常困难,所以只能研制适合于制定用途的合金材料;(2)对于以车载电子产品为中心的材料,以改善焊接接合部位的特性为主,一般选择耐热疲劳优
无铅可焊性镀层及其在电子工业中的应用,标签:镀层技术,涂覆工艺,http://www.88dzw.com近年来,在欧美各国,铅对地下水的污染问题日益突出,其主要原因是废弃电子产品中的焊接材料—Sn—Pb合金中的铅溶出造成的。目前,Sn—Pb焊料在电子部件的装配上仍占主导地位。然而,铅对人体环境具有很大的毒害性,人们期待着无铅焊料及与此相应的电镀工艺。因此,无铅可焊镀层的开发是电子组装行业绿色生产的根本。
在这样的社会背景下,近年来无铅可焊性合金的开发开始活跃起来。人们主要是探讨了各种锡基合金。当前的研究目标是:(1)由于开发性能完全优于Sn—Pb系合金的材料非常困难,所以只能研制适合于制定用途的合金材料;(2)对于以车载电子产品为中心的材料,以改善焊接接合部位的特性为主,一般选择耐热疲劳优良的Sn—Ag系合金;(3)作为日用电器制品,Sn—Bi系合金比较合适,但其电镀工艺的稳定性有待提高。在这一领域,如果想进一步降低成本,可选择Sn—Zn系合金[1]。
下面在分析无铅可焊镀层的特征及存在问题的基础上,从生产实际需要出发,介绍各种无铅可焊性镀层的电镀工艺设计及新镀液体系的开发现状。
1 Sn—Zn合金镀层
Sn—Zn合金的共晶组成为Sn的质量分数为91%的合金,共晶温度198℃,比Sn—Pb共晶可焊性合金(熔点183℃)高一些。虽然Sn—Zn合金的结合强度没有问题,但焊接润湿性较差,特别是其耐氧化性亦较差,所以应该在氮气气氛下焊接。目前,正在开发在大气中进行焊接的焊剂。
Sn—Zn合金镀层的机械性能良好,其成本太高。然而,锡与锌的标准电极电位相差较大,在简单盐中共沉积比较困难,常需要使用与Sn2+能形成稳定络合物的氰化物镀液、氟硼酸盐镀液和焦磷酸盐镀液等。这些镀液的废水处理,用中和沉降处理较困难,因此工业应用受到限制。
V.S.Vasantha等人在分析各种无氰镀液的基础上,提出了中性葡萄酸盐Sn—Zn合金镀液,该镀液的分散能力可与传统的氰化物—锌酸盐镀液相媲美,电流效率可达95%以上,镀液维护方便,操作简单[2]。绳舟秀美等人发现以磺基琥珀酸为络合剂的电镀Sn—Zn合金镀液,其废水可以用中和沉降处理。在该镀液体系中,为使Zn与Sn共沉积,需要加入聚环氧乙烷壬基苯酚醚(POENPE)为添加剂,这是因为磺基琥珀酸锡络合物的稳定性较低,仅靠络合剂不能抑制Sn的优先沉积,必须与POENPE配合使用。由阴极极化曲线得知,POENPE可使Sn的沉积电位负移600mV,大大抑制Sn的沉积,使其与Zn发生共沉积。采用上述镀液,在铜基体上以及在镀镍层上电镀Sn—Zn合金镀层的DSC曲线如图1所示。Sn—Zn合金镀层本体及镍镀层上的Sn—Zn合金镀层的共晶温度都是198℃,但铜基体上的Sn—Zn合金镀层的共晶温度为225℃,接近于锡的熔点。这样,镀层达到共晶温度时,镀层中的锌有可能向铜基体扩散,造成结合强度降低。在实际中,为解决这一问题,可电镀镍作为阻挡层,以防止锌的扩散[3]。
由于Sn、Zn均为两性金属,在Sn—Zn合金电镀中,也可以使用锡酸盐—锌酸盐镀液,其废水处理也比较容易。但是,该镀液为强碱性体系,在印制线路板上电镀受到限制,但可以用于铅基体的电镀。
Sn—Zn合金镀层存在的问题主要是其抗氧化性问题,为提高其抗氧化性,需要开发相应的焊剂,也可能通过在镀层中添加第三种成分来实现
2 Sn—Ag合金镀层
Sn—Ag合金的共晶组成为Sn的质量分数为96.5%的合金,共晶温度221℃。虽然焊接温度高于Sn—Pb合金,但结合强度及耐热疲劳性良好,可用于携带用电子器械及高可靠性部件。
在Sn—Ag合金电镀中,由于银的电极电位比锡正得多,所以必须使用含有能与Ag+强烈络合的络合剂的镀液,目前正在开发研究的是以大量的KI络合Ag+的焦磷酸盐镀液。但是,这种镀液在使用时,银优先析出,容易引起银在阳极镀层表面的置换析出。在使用不溶性阳极时,由于氧化剂I2的形成,导致Sn2+的氧化,使镀液稳定性降低。在工业生产中,为防止I-的氧化,常使用带有隔膜的电解槽,此外还在探讨使用能够替代KI的络合剂。使用这种镀液,除应考虑锡和银的废水处理问题外,还应关注磷的排放。
绳舟秀美等人探讨了以酒石酸为络合剂的Sn—Ag合金镀液。在该体系中,通过加入与Ag+形成稳定络合剂的N—乙酰—L—半胱氨酸,使低电流密度时银优先析出的问题得以解决,银的电沉积与电流密度有关,随着电流密度的增大,镀层含银量增加。由于加入N—乙酰—L—半胱氨酸,显著改善镀层的表面形态,使镀层平滑、致密。N—乙酰—L—半胱氨酸对镀层组成的影响如图2所示。由图可见,N—乙酰—L—半胱氨酸含量对镀层含银量影响较大,电镀过程中应严格控制。由N—乙酰—L—半胱氨酸对阴极极化曲线的影响分析表明,随着阴极极化的增大,总电流、Sn2+沉积的电流及Ag+沉积的电流均增大。在该体系中Sn—Ag合金的电沉积机理尚在探讨中[4]。
《无铅可焊性镀层及其在电子工业中的应用》相关文章
- › 无铅可焊性镀层及其在电子工业中的应用
- 在百度中搜索相关文章:无铅可焊性镀层及其在电子工业中的应用
- 在谷歌中搜索相关文章:无铅可焊性镀层及其在电子工业中的应用
- 在soso中搜索相关文章:无铅可焊性镀层及其在电子工业中的应用
- 在搜狗中搜索相关文章:无铅可焊性镀层及其在电子工业中的应用