DFM工具有助于实现“光刻友好”布局

文章摘要：明导国际（Mentor Graphics）认为，其最新的DFM（可制造性设计，design-for-manufacturing）将对集成电路设计人员设计"光刻友好"的集成电路布局提供帮助。该公司的新型Calibre LFD（光刻友好设计，lithography-friendly design）是一种类似于DRC/LVS（设计规则检查/低压信令，design-rule-checking/low-voltage-signaling）的工具。不过，Calibre LFD并不检查布局是否符合设计规则（例如线迹宽度和间距）与早期原理图，而是检查布局是否符合描述给定生产线剂量和焦点的光

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明导国际（Mentor Graphics）认为，其最新的DFM（可制造性设计，design-for-manufacturing）将对集成电路设计人员设计"光刻友好"的集成电路布局提供帮助。该公司的新型Calibre LFD（光刻友好设计，lithography-friendly design）是一种类似于DRC/LVS（设计规则检查/低压信令，design-rule-checking/low-voltage-signaling）的工具。不过，Calibre LFD并不检查布局是否符合设计规则（例如线迹宽度和间距）与早期原理图，而是检查布局是否符合描述给定生产线剂量和焦点的光刻制造规则。该工具集成了与OPCVerify一样的引擎，它采用的是一种类似OPC（光学接近修正，optical-proximity-correction）的技术，是Mentor在1月份为光刻设计人员推出的。

　　Mentor负责LFD产品的产品开发经理Jean-Marie Brunet表示："Calibre LFD旨在捕捉工艺变化以改善设计的稳定性。我们开发出了Calibre LFD套件，它是一种有助于晶圆厂将光 刻信息传递给使用Calibre LFD的布局工程师的加密格式。该套件包括制造商定义的配方信息，以及光学处理、抗蚀剂掩模等工艺模型，在某些情况下还包括蚀刻剖面。在将套件安装到Calibre LFD中之后，布局工程师将其设计布局输入工具中。然后，利用工具输出一套类似于DRC的标记，标记出违反规则的地方，这时，用户必须使用一个独立的布局工具对其修改。该工具可以发现不同于DRC工具发现的错误。

　　该工具也可产生一个DVI（设计变异指数，design-variability index），这将有助于用户确定变异敏感的拓扑结构。DVI也可以对拓扑结构问题进行归类，有助于用户在调整其布局或甚至改变设计规则时，进行折中考虑。一次布局修正可能对保证时间和生产产生积极的影响，但是也可能出现功率问题。Brunet说："对于要实现优化的布局工程师来说，他们需要有一种比较两种布局的能力，而不需要对光刻问题的专业理解。"因此，该工具可为一个给定的布局或甚至一项IP（知识产权）提供DVI值；而且，DVI值越低，参数变化越不易使设计受到影响。

　　未来发布的工具将很可能包括修改布局的特性。在参与工厂的制造工艺开发时，Mentor将对具体的工厂和工艺的Calibre LFD套件进行维护和更新。该工具的一年期用户的价格为246,000美元。