当前位置：半导体硅片金属微观污染机理研究进
- 名称：半导体硅片金属微观污染机理研究进
- 类型：单片机学习
- 授权方式：免费版
- 更新时间：09-10 23:12:36
- 下载要求：无需注册
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- 语言简体中文
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- 推荐度：3 星级
《半导体硅片金属微观污染机理研究进》简介
标签：单片机开发,单片机原理,
摘要：综述了近10年来国内外在半导体硅片金属微观污染研究领域的进展。研究了单金属特别是铜的 沉积、形成机理和动力学以及采用的研究方法和分析测试手段，包括对电化学参数和物理参数等研究。指出了随着科学技术的不断发展，金属污染金属检测手段也得到了丰富，为金属微观污染的研究提供了有力的工具。， 大小：982 KB
Tag:单片机学习，单片机开发,单片机原理，单片机学习
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